Výroba čipů: Elektrony místo optické litografie
Použít k úpravě povrchu čipu pod maskou namísto světla elektrony bývá oproti optické litografii náročnější, podle vědců z MIT to však bude nutné. Jinak nelze docílit další miniaturiace. „Nám se podařilo použít svazek elektronů k šetrnému vytvoření vzoru. Dosáhli jsme toho využitím organických polymerů (polystyrenu a polydimethylsiloxanu) schopných samočinného sestavení (self assembly), “ uvedla profesorka Caroline […]
Sdílet
Použít k úpravě povrchu čipu pod maskou namísto světla elektrony bývá oproti optické litografii náročnější, podle vědců z MIT to však bude nutné. Jinak nelze docílit další miniaturiace. „Nám se podařilo použít svazek elektronů k šetrnému vytvoření vzoru. Dosáhli jsme toho využitím organických polymerů (polystyrenu a polydimethylsiloxanu) schopných samočinného sestavení (self assembly), “ uvedla profesorka Caroline Rossová z MIT.
Jinak je bombardování povrchu elektrony obdobné jako vlastní optická litografie. Vzor je vytvořen maskoua exponované části se pak odleptají.
Podrobnosti Computerworld.cz.
Komentáře
Napsat vlastní komentář
Pro přidání příspěvku do diskuze se prosím přihlašte v pravém horním rohu, nebo se prosím nejprve registrujte.