Použít k úpravě povrchu čipu pod maskou namísto světla elektrony bývá oproti optické litografii náročnější, podle vědců z MIT to však bude nutné. Jinak nelze docílit další miniaturiace. „Nám se podařilo použít svazek elektronů k šetrnému vytvoření vzoru. Dosáhli jsme toho využitím organických polymerů (polystyrenu a polydimethylsiloxanu) schopných samočinného sestavení (self assembly), “ uvedla profesorka Caroline Rossová z MIT.
Jinak je bombardování povrchu elektrony obdobné jako vlastní optická litografie. Vzor je vytvořen maskoua exponované části se pak odleptají.
Podrobnosti Computerworld.cz.
