Jedná se o opět o vrstvu silnou ideálně 1 atom – jak už svědčí název, tentokrát jde o speciální formu cínu, do jehož mřížky jsou navíc zabudovány atomy fluoru. Podobně jako grafen by měl být i stanem supravodivý, na rozdíl od něj si však uchová tuto vlastnost i při vyšších teplotách, odhadem asi do 100 C. Pro elektroniku je taková vlastnost samozřejmě ohromně výhodná – při přenosu energie nebude docházet ke ztrátám a především se při nulovém odporu prakticky nebude uvolňovat teplo, odpadne tedy problém s chlazením.
Stanen připravili výzkumníci ze Stanfordu za podpory amerického ministerstva energetiky, vedoucím výzkumného týmu byl Shoucheng Zhang. Objev, o němž referoval Physical Review Letters, byl přitom výsledkem zkoumání tzv. topologických izolátorů, tj. látek, kterou vedou elektrický proud po svém povrchu, nikoliv však vnitřkem materiálu. Pokud se takový materiál podaří ztenčit na jednoatomovou vrstvu, dostaneme supravodič. Nicméně nadšení je v tuto chvíli třeba ještě trochu mírnit – značná část předpokládaných vlastností stanenu je totiž odhadována jen na základě simulací a dosud nepotvrzena experimentálně. Navíc je otázkou, jak snadné bude vyrábět jeden atom tlustou vrstvu cínu nejen v laboratoři, ale i průmyslově.
Supravodivé vlastnosti by vrstvička cínu mohla mít i s jinými příměsemi než s fluorem, ba i sama o sobě; zde se však předpokládá, že by takto fungovala jen za pokojových teplot. Cínové spoje by údajně mělo jít poměrně snadno propojit se stávající křemíkovou elektronikou; zatím se nepředpokládá, že by stanem měl křemík zcela nahradit. Jak Zhang ale poznamenává, firmy budoucnosti budou třeba sídlit v „Tin Valley“…
Zdroj: The Register
