Student World

S tím, jak houstne struktura integrovaných obvodů, zvyšuje se i jemnost ukládání jednotlivých součástek. V současnosti se k výrobě čipů využívá litografických postupů, které jsou ovšem omezeny vlnovou délkou použitého světla.
Prozatím se problém řeší posouváním ke kratším — a lidskému oku už neviditelným — vlnovým délkám, i toto řešení má ovšem své meze. Navíc vyžaduje čím dál vyšší nároky a náklady na použité technologie. Nyní IBM ve spolupráci s japonskou firmou Nikon zveřejňuje výsledky práce svých vědců, kteří se rozhodli nahradit světlo elektrony.
IBM používá elektronů při výrobě čipů již několik desetiletí, s ohledem na nízkou rychlost výroby se však prozatím omezovala pouze na procesory velkých sálových počítačů. V případě masové produkce pro osobní počítače je ovšem třeba postup urychlit, což se nyní skutečně podařilo.
Zatímco u litografického principu je celý čip vyroben na jedno "nasvícení", použití elektronů vyžaduje proces podobný principu televizní obrazovky. "Obraz" čipu se tedy skládá po bodech srovnaných v řádcích, po kterých přejíždí paprsek elektronů. Tento postup je mnohonásobně pomalejší. Princip nové technologie ovšem umožňuje zpracovávat desítky řádků současně, a tím i podstatně urychlit proces výroby. I když rychlostí se elektronová metoda té litografické stále nevyrovná, perspektiva zjemňování obvodů až na úroveň atomů tento nedostatek vyrovnává. Pokud se navíc daří "ostřelovat" proudem elektronů více řádků současně, dá se očekávat, že časem se povede ozářit celou plochu v jednom cyklu.
Protože se však jedná teprve o první laboratorní výsledky, budeme si muset na zavedení této metody do běžné výroby ještě několik let počkat. Do té doby snad dosáhne hustota integrovaných obvodů fyzikálních hranic litografické metody.

autor Jiří T. Pelech