Vědci z MITu vyvíjejí stále pokročilejší techniky optické litografie, které umožňují vytvářet struktury čipů pomocí vln světla – standardně se k tomu používaly elektrony. Zatím dosud bylo hranicí pro miniaturizaci čipu asi 25 nm, nyní by se mohl podařit průlom až k 2-3 nanometrům. MIT dokonce pro tyto výzkumy, eventuálně i komerční dodávky nových čipů vydělil samostatnou firmu Lum Array.
Rajesh Menon z MITu uvedl, že nová technologie by měla změnit překážku v podobě vlnové délky použitého světla. Vědci se zaměřili na interferenční vzorce, které obsahují vlny odlišných délek. Tímto způsobem by mělo být možné vytvořit i čip menší, než je vlnová délka jednotlivých vln.
Intel a AMD dnes k výrobě čipů využívají technologii otisknutí designu čipu do skleněného materiálu, jež se označuje jako fotomaska. Ta už se pak ale dále replikuje klasicky, pomocí elektronů.
Podrobnosti přináší Computerworld.cz.
