Společnost Lucent Technologies bude agentuře DARPA dodávat systémy miniaturních elektromechanických prostorových světelných modulátorů pro bezmaskovou litografii.
Společnost Lucent Technologies byla vybrána agenturou DARPA (Defense Advanced Research Projects Agency) za účelem vývoje moderních mikrosystémů, které urychlí, usnadní a zlevní návrh, výrobu a technologii křemíkových integrovaných obvodů nové generace. Další výhodou bude zvýšená bezpečnost pro vojenské účely jako jsou komunikace o přesunu armádních jednotek a ochrana státu. Čtyřletý kontrakt, označený jako N66001-04-C-8028, byl udělen Centrem pro vzdušné a námořní bojové systémy v San Diegu Jeho hodnota včetně opcí dosahuje výše 9,5 mil. USD.
Společnost Lucent Technologies navrhne, vyvine a předvede na mikroskopických elektromechanických systémech (MEMS) založené prostorové světelné modulátory (SLM), jež dovolí využít technologii bezmaskové optické litografie.
Litografie je postup tiráže obrazců na polovodičový materiál používaný v integrovaných obvodech. Při tomto postupu se používá specifického obrazce neboli masky. Výroba těchto masek je nákladná a při každé změně obvodu je třeba vyrobit masku novou. Při výrobě nižšího počtu obvodů může výroba těchto masek výrazně zvýšit náklady. Bezmasková litografie využívající na MEMS založené SLM umožní výrobcům obvodů snížit náklady právě tímto způsobem. Prostorové světelné modulátory společnosti Lucent zmenší velikost obvodů a zvýší jejich výkonnost.
Technologii MEMS SLM vyvinutou laboratořemi Bell Labs umožnil pokrok v oblasti nanotechnologií. SLM společnosti Lucent mají obsahovat 10x větší množství jednotlivých pohyblivých mikroskopických zrcadel nebo obrazových bodů (pixelů), než je v současné době možné. Jednotlivé pixely budou 5x menší a 10x rychlejší. To znamená, že systémy optické bezmaskové litografie použité při výrobě mikroelektroniky budoucnosti budou mít vysokou kapacitu a rozlišovací schopnost v řádu 50nm.
Řešení MEMS SLM umožňuje manipulovat se světelnými paprsky způsobem, jenž nebyl v minulosti při výrobě mikroelektronických zařízení možný. Zařízení MEMS SLM společnosti Lucent, jež je složeno ze součástek o velikosti 100 až 200 nanometrů, obsahuje miniaturní zrcadlová pole o velikosti mnoha milionů pixelů, jež snižují nároky na projekční optiku nutnou k dosažení rozlišovací schopnosti v řádu 50nm pro integrované obvody nové generace. Nižší stupeň zmenšení vyžadovaný menšími obrazovými body dovoluje větší vyobrazení při stejné velikosti optických prvků a numerické cloně. V porovnání se současnými běžnými metodami se tak kapacita zvýší 10x až 50x, což vede k vysoce ekonomické výrobě.
„Jednou z největších překážek v oblasti bezmaskové litografie je vývoj a implementace vhodné technologie pro modulaci světelného paprsku,“ uvedl Dave Bishop, ředitel výzkumu nanotechnologií a předseda konsorcia NJ Nanotech laboratoří Bell Labs. „Technologie miniaturních zrcadel, kterou společnost Lucent poskytuje agentuře DARPA, je velkým pokrokem v oblasti MEMS a bylo jí dosaženo díky kombinaci moderních konstrukčních řešení a naší jedinečné schopnosti v oblasti systémů MEMS. Předpokládáme, že tato technologie bude mít pozitivní vliv v kritických oblastech jako je státní bezpečnost nebo komunikace o přesunu armádních jednotek.“
Mezi společnosti, které se na úspěchu podílí, patří například Corning Tropel Corporation, DuPont Photo Masks Inc. a Lincoln Laboratories. Vše probíhá ve spolupráci s nizozemským výrobcem polovodičů ASML.
