Vědci společnosti IBM vyrobili čip pomocí 29,9nanometrové výrobní technologie. Posunuli tak původní předpokládanou hranici využití optické litografie, která měla dostačovat pouze do měřítka 32 nm.
Z hlediska křemíkového byznysu jde o počin, jenž posunul dobu, kdy by výrobci čipů museli přejít na zcela jinou technologii výroby. Podle odhadů nyní mají přibližně 7 let na vývoj výrobních technologií produkujících polovodiče v měřítku menším než 29,9 nm.
Podle pozorovatelů trhu IBM pouze posunula fyzické limity optické litografie, což má význam především pro obchodní stránku výroby čipů. Technika, již vědci IBM použili, se nazývá DUV optická litografie (DUV, Deep-Ultraviolet) a konkrétní variantu jejího nasazení potom nese označení High-Index Immersion.
Dodejme, že dosažených necelých 30 nanometrů představuje přibližně třetinový rozměr oproti dnešnímu výrobnímu standardu, jenž má hodnotu 90 nm. Například společnost Intel ale již zahájila výrobu 65nm technologií.
Obvody jdou vyráběny s pomocí laserového paprsku, který vytváří potřebné vzorce ve fotocitlivé vrstvě křemíkového plátu. Poté následuje leptání, materiálové zušlechťování a propojování tranzistorů. Mezi křemíkový plát a laserový paprsek optiky se vkládá chemicky čistá voda, která umožňuje dosažení vyššího rozlišení zanášených stop. Tato technika se nazývá Immersion Litography (vnořená litografie).
Nástroj IBM přezdívaný Nemo využívá křížící se laserové paprsky, jež vytvářejí světlé a tmavé křížící se vzory s tenčími mezerami, než jakých dosahuje stávající výrobní metoda. Pro komerční uplatnění scházejí pouze odpovídající vysokoindexní materiály laserových objektivů.
